PIDESS

14. PIDESS

Procedeu si instalatie pentru depunerea de straturi subtiri in regim de plasma pulsata cu grad ridicat de ionizare

Depunerea de straturi subtiri este un procedeu folosit pe scara larga in aproape toate ramurile industriale, de la cele care produc ultra-inalta tehnologie pana la cele care produc obiecte de uz casnic. Cercetarile realizate in procesarea materialelor au aratat ca proprietatile fizice si chimice ale straturilor depuse sunt diferite fata de cele ale materialului brut din care au fost pulverizate, depinzand puternic de metoda de sintetizare. Principalul obiectiv al proiectului este cel de a construi o instalatie compacta pentru depunerea de straturi subtiri, proiectata pentru a fi folosita in diverse aplicatii, cercetare stiintifica, formare profesionala sau scopuri didactice. Instalatia de depunere poate fi folosita pentru o gama larga de materiale (metale, aliaje, oxizi) datorita sursei de alimentare in regim pulsat. Sistemul de pulverizare are la baza conceptul de catod magnetron, rezultand astfel o instalatie bazata pe un procedeu tehnologic, cunoscut in literatura de specialitate ca High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS). Caracteristica inovativa a instalatiei este aceea de a controla procesul de depunere prin gestionarea pierderilor de material pulverizat printr-o combinatie eficienta a sursei de alimentare pulsata, a configuratiei magnetilor catodului si a unei confinari magnetice suplimentare. Fiind o instalatie compacta este recomandata ca dispozitiv de laborator in scopuri educative. Deasemenea, instalatia permite efectuarea de experimente pilot la scara mica pentru a imbunatati procedeul de depunere a unor materiale noi, devenind astfel un excelent precursor pentru instalatiile de producere a straturilor subtiri la scara industriala. Din punct de vedere al aplicatiilor, valoarea sistemului nostru de depunere este sustinuta de imbunatatirea straturilor subtiri obtinute prin noua tehnologie HPPMS. Instalatie este oferita cu o configuratie de baza, produsa cu costuri reduse, utila in formarea profesionala in domeniul PCVD. Optional, poate fi imbunatatita pentru a obtine o instalatie de inalta performanta pentru cercetare stiintifica sau microproductie. Consortiul cuprinde specialisti din domeniul fizicii plasmei (CO), ingineri ai unei intreprinderi mici (P1) si specialisti in domeniul acoperirilor cu straturi subtiri si caracterizarea acestora (P2). Proiectul se va finaliza prin realizarea prototipului instalatiei compacte de depunere de straturi subtiri, insotit de manualele de utilizare ce descriu posibilitatile si modalitatile de operare.

Obiectivele proiectului

Obiectivul principal al proiectului este cel de a construi o instalatie compacta pentru depunerea de straturi subtiri, proiectata pentru a fi folosita in diverse aplicatii, cercetarea stiintifica, formare profesionala sau scopuri didactice. Instalatia poate fi oferita cu o configuratie de baza, produs cu costuri reduse, utila in formarea profesioanala in domeniul PCVD. Optional, poate fi oferita o configuratie imbunatatita pentru a se obtine o instalatie de inalta performanta pentru cercetare stiintifica si/sau microproductie. Proiectul se va finaliza prin realizarea prototipului instalatiei compacte de depunere de straturi subtiri, insotit de manualele de utilizare ce descriu posibilitatile si modalitatile de operare.

Conducator proiect: Universitatea Alexandru Ioan Cuza din Iasi
Director proiect: Vasile TIRON

Parteneri:
Apel Laser SRL
Universitatea din Craiova

Pagina proiectului.